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高洁净环境预抽真空半导体行业无油式节能环保真空泵供应商
普旭(Busch)单级无油式真空泵在半导体行业 中具有重要应用价值,尤其适用于对洁净度、无油污染和稳定真空环境要求严苛的工艺环节。与油式泵相比,无油设计彻底消除了油蒸汽返流污染的风险,符合半导体制造的高标准需求
适用于高洁净度要求的先进制程(如7nm以下节点)。
3.工艺气体处理与回收
抽除刻蚀、沉积工艺中的 非腐蚀性废气(如氮气、氩气),搭配气体过滤系统实现无害化处理。
无油设计避免真空泵与工艺气体反应,延长设备寿命。
4. 真空干燥与封装
用于芯片封装环节的真空干燥工艺(如去除环氧树脂中的气泡),确保封装材料均匀固化。
在3D封装、MEMS器件制造中,提供稳定的低真空环境。
普旭单级无油式真空泵的优势
1. 零油污染
- 采用干式运行技术(如爪式、涡旋式或螺杆式设计),无需润滑油,彻底杜绝油蒸汽反流污染,符合 ISO 1级洁净室 要求。
2. 高可靠性
- 结构紧凑,磨损部件少,适合 7×24小时连续运行,故障率低,维护周期长。
3. 宽泛的真空范围
- 单级无油泵的极限真空可达 0.1~5 mbar,满足半导体中低真空环节需求(如预抽、干燥、传输)。
4. 低能耗与低噪音
- 优化设计降低能耗(相比油式泵节能10%~20%),运行噪音通常低于65 dB,适合洁净室环境。
5. 兼容腐蚀性气体
- 部分型号采用耐腐蚀涂层(如特氟龙、陶瓷),可处理 轻度腐蚀性气体(需根据工艺定制)。
- 适配腐蚀性气体过滤系统,用于刻蚀废气回收。
与油式泵及干式泵的对比
维度 | 普旭单级无油泵 | 油式真空泵 | 干式泵(如螺杆泵) |
洁净度 |
无油污染,适合洁净室 |
需严格过滤,仍有污染风险 |
无油,洁净度极高 |
真空度 |
0.1~5 mbar |
1~5 mbar |
0.01~0.1 mbar(双级更高) |
维护成本 |
低(无需换油) |
中(定期换油、滤芯) |
较高(精密部件维护) |
适用工艺 |
预抽、传输、干燥等中低真空环节 |
非洁净区辅助设备 |
核心工艺(刻蚀、沉积 |
初期投资 |
中高 | 低 | 高 |
注意事项与优化方案
1. 气体兼容性检查
- 若工艺涉及腐蚀性气体(如Cl?、HF),需选择特殊涂层或材质(如镍基合金)的无油泵,并加装 化学过滤器。
2. 热管理
- 长时间运行可能导致泵体升温,需确保散热系统(如风冷/水冷)适配洁净室环境。
3. 振动控制
- 安装减震底座或软连接管道,避免振动传递至精密设备(如光刻机)。
4. 系统集成
- 搭配真空传感器和PLC控制系统,实现真空度实时调控,提升工艺稳定性。
行业应用案例
光刻机预抽系统:Cobra NC系列无油泵用于ASML光刻机腔体预抽,5分钟内将压力降至5 mbar,接力分子泵进入超高真空。
3D NAND封装:Seco SV系列泵在真空干燥环节去除多层堆叠结构的间隙气体,提高良率。
化合物半导体制造:耐腐蚀无油泵处理GaN刻蚀废气,避免油污染导致的晶体缺陷。
普旭单级无油式真空泵凭借其 零污染、高可靠性和低维护成本,成为半导体行业预抽、传输及干燥环节的理想选择。尽管其极限真空度不及分子泵,但通过与其他高真空泵的协同工作,能够显著提升系统效率并降低污染风险。在先进制程和洁净室环境中,无油泵正逐步替代传统油式泵,成为半导体设备升级的关键组件。对于更高真空需求的核心工艺(如离子注入),仍需搭配涡轮分子泵或干式螺杆泵完成。东莞市飞粤真空科技有限公司