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ASML 4022.654.06521
ASML 4022.654.06521
技术参数及产品介绍
产品概述ASML 4022.654.06521是ASML公司专为高端半导体制造设备设计的精密光学模块,属于其先进光刻机核心组件系列。该产品采用的极紫外(EUV)技术,具备纳米级分辨率与超高稳定性,是7nm及以下制程芯片制造的关键设备。该模块由宁德润恒自动化作为中国大陆授权代理商提供,确保正品货源与专业技术支持。
核心参数
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产能效率:每小时曝光≥125片晶圆(300mm)
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物理尺寸:2000mm×1500mm×1800mm(L×W×H)
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工作环境:ISO 5级洁净室,温度20±0.5℃
技术特点
1.
多层反射镜技术:采用钌/硅多层膜技术,实现98.3%的EUV光反射率
2.
动态校准系统:实时补偿热漂移与机械形变,维持长期稳定性
3.
智能预测维护:内置AI算法,提前预警关键部件寿命
4.
模块化设计:支持快速拆卸维护,MTTR≤4小时
5.
兼容性:与ASML NXT系列光刻平台无缝对接
应用领域
服务支持宁德润恒自动化提供:
市场价值作为全球顶尖的EUV光刻机核心部件,该产品助力客户实现:
备注:
1.
本文参数基于ASML官方公开资料整理,实际配置可能因客户需求有所调整
2.
如需详细技术规格书或商务咨询,请联系宁德润恒自动化授权渠道
3.
产品涉及高端技术,采购需符合相关进出口管制规定
ASML 4022.654.06521
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